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2016中國（北京）國際靶材產品及鍍膜工業展覽會時間：2016年5月9-11日地點：北京·國家會議中心同期活動：2016靶材應用研討會2016真空鍍膜技術交流會■組織單位主辦單位：中國
發布時間：2016-05-01 點擊次數：949
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濺射靶材的分類金屬濺射鍍膜靶材，合金濺射鍍膜靶材，陶瓷濺射鍍膜靶材，硼化物陶瓷濺射靶材，碳化物陶瓷濺射靶材，氟化物陶瓷濺射靶材，氮化物陶瓷濺射靶材，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷濺射靶材，硅化物陶瓷濺射靶材，硫化
發布時間：2016-03-29 點擊次數：778
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國內濺射靶材發展與應用20世紀90年代以來靶材已蓬勃發展成為一個專業化產業，中國及亞太地區靶材的需求占有世界70%以上的市場份額。大量不同的沉積技術用來沉積生長各種薄膜，而靶材是制作薄膜的關鍵，品質的好壞對薄膜的意義重大。
發布時間：2016-03-29 點擊次數：2702
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靶材的主要性能要求純度純度是靶材的主要性能指標之一，因為靶材的純度對薄膜的性能影響很大。不過在實際應用中，對靶材的純度要求也不盡相同。例如，隨著微電子行業的迅速發展，硅片尺寸由6”,8“發展到12”,而布線寬
發布時間：2016-03-29 點擊次數：1024
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磁控濺射鍍膜靶材： 金屬濺射鍍膜靶材，合金濺射鍍膜靶材，陶瓷濺射鍍膜靶材，硼化物陶瓷濺射靶材，碳化物陶瓷濺射靶材，氟化物陶瓷濺射靶材，氮化物陶瓷濺射靶材，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷濺射靶材，硅化物陶瓷濺射靶材，硫化物陶
發布時間：2016-03-29 點擊次數：543
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第一：靶面金屬化合物的形成。由金屬靶面通過反應濺射工藝形成化合物的過程中，化合物是在哪里形成的呢？由于活性反應氣體粒子與靶面原子相碰撞產生化學反應生成化合物原子，通常是放熱反應，反應生成熱必須有傳導出去的途徑，否則，該化學反應無法繼續進行。
發布時間：2016-03-29 點擊次數：456
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合金靶材的濺射原理：對濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且最終沉積在基片表面，經歷成膜過程，最終形成薄膜。濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發鍍膜的不同點在于濺射
發布時間：2016-03-29 點擊次數：459
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真空濺射靶材的信息介紹，幫助大家更好的了解靶材行業的知識。 靶材技術指標：純度：3-4N主要成分：ZnO：Al2O3=97:3[可根據用戶要求調整Al2O3摻雜比(0-4)wt%]相對密度：d≥98%理論密度：ρ=5
發布時間：2016-03-29 點擊次數：211
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目前全球各主要靶材制造商的總部，大多設立在美國、德國和日本。就美國而言.約有50家中小規模的靶材制造商及經銷商，其中最大的公司員工大約有幾百人。不過為了能更接近使用者，以便提供更完善的售后服務，全球主要靶材制造商
發布時間：2016-03-29 點擊次數：950
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(1) density，這個是最主要的，好的靶密度至少達到97%以上，所以大家買回靶來以后可以根據重量體積來計算一下你們的靶的密度和理論塊體的密度的比例有多少，低于90%的退貨。 (2) 開裂問題，套磁靶很容易開
發布時間：2016-03-29 點擊次數：436
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未來ITO靶材發展大致有以下的趨勢： 1.降低電阻率。隨著LCD愈來愈精細化發展的趨向，以及它的驅動程序不同，需要更小電阻率的透明導電膜。 2.高密度化。靶材密度的改善直接帶來的益處主要表現在減少黑化和降低電阻率方面。靶材若為低密度時，
發布時間：2016-03-29 點擊次數：635
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鉬靶材主要用于平面顯示行業，屬于鉬金屬制品生產鏈最頂端產品新靶材含有與刀具及模具等的母材的密著性高、且潤滑性出色的鉬。因此可省去用于提高密著性的襯底用靶材，降低成本。一般情況下，高硬度覆膜
發布時間：2016-04-22 點擊次數：1485
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鉿，金屬Hf，原子序數72，原子量178.49，熔點高，與鋯共存。是一種帶光澤的銀灰色的過渡金屬。有金屬光澤;金屬鉿有兩種變體:α鉿為六方密堆積變體(1750℃)，其轉變溫度比鋯高。金屬鉿在高溫下有同素異形變體存在。具有塑性的金屬，當有雜質
發布時間：2016-06-01 點擊次數：1221
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一、濺射準備保持真空腔體尤其是濺射系統潔凈是非常重要的。任何由潤滑油和灰塵以及前期鍍膜所形成的殘留物會收集水氣及其他污染物，直接影響真空度獲得和增加成膜失敗的可能性。短路或靶材起弧，成膜表面粗糙及化學雜質含量超標經
發布時間：2016-03-29 點擊次數：1469
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一、背靶材料無氧銅(OFC)–目前最常使用的作背靶的材料是無氧銅，因為無氧銅具有良好的導電性和導熱性，而且比較容易機械加工。如果保養適當，無氧銅背靶可以重復使用10次甚至更多。鉬(Mo)–在某些使用條件比較特殊的情況下，如
發布時間：2016-03-29 點擊次數：345
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磁控濺射靶材的運作過程很多人不不太清楚，對磁控濺射靶材的工作內容也不了解，下面就為大家簡單的介紹一下。磁控濺射的基本原理是利用Ar一02混合氣體中的等離子體在電場和交變磁場的作用下，被加速的高能粒子轟擊靶材表面，能量交換后，靶材表面的原子
發布時間：2016-03-29 點擊次數：335
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靶材的作用很多，而且市場發展空間較大，它在很多領域都有很好的用途。新型的濺鍍設備幾乎都使用強力磁鐵將電子成螺旋狀運動以加速靶材周圍的氬氣離子化,造成靶與氬氣離子間的撞擊機率增加, 提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都
發布時間：2016-03-29 點擊次數：323
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靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時，會產生不同的殺傷破壞效應。例如：蒸發磁控濺射鍍膜是加熱蒸發鍍膜...鋁膜等。更換不同的靶
發布時間：2016-03-29 點擊次數：307
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濺射靶材：金屬濺射鍍膜靶材，合金濺射鍍膜靶材，陶瓷濺射鍍膜靶材，硼化物陶瓷濺射靶材，碳化物陶瓷濺射靶材，氟化物陶瓷濺射靶材，氮化物陶瓷濺射靶材，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷濺射靶材，硅化物陶瓷濺射靶材，硫化物陶瓷濺射靶材，碲化物陶瓷
發布時間：2016-03-29 點擊次數：264
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磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點：利用磁場與電子交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行，從而增大電子撞擊氬氣產生離子的概率。所產生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出濺射靶材。在近
發布時間：2016-03-29 點擊次數：352
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靶材的應用范圍廣闊，市場發展空間巨大，脫鈦劑結合PVD鍍膜的特點而生產的一種高效環保無毒退膜藥水。 脫鈦劑由于具有無毒﹑環保的特點，所以絕不傷害電鍍保護漆與基體，并迅速剝離IP涂層，起到了良好的分色效果。它主要是針對離子裝飾
發布時間：2016-03-29 點擊次數：168
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如果靶材是磁性材料，磁力線被靶材屏蔽，磁力線難以穿透靶材在靶材表面上方形成磁場，磁控的作用將大大降低。因此，濺射磁性材料時，一方面要求磁控靶的磁場要強一些，另一方面靶材也要制備的薄一些，以便磁力線能穿過靶材，在靶面
發布時間：2016-03-29 點擊次數：173
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濺射靶材主要應用于電子及信息產業,如集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器、電子控制器件等;亦可應用于玻璃鍍膜領域;還可以應用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業。 信息存儲產業：隨著IT產業的不斷發展,世界對記錄介質的需求
發布時間：2016-03-29 點擊次數：187
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高純鋁濺射靶材行業的發展情況。隨著電子新材料行業的快速發展,以高純鋁為基礎的電子新材料產品(包括靶材)需求將保持高速增長。十一五期間，我國“國家高技術研究發展計劃(863計劃)新材料技術領域“大尺寸超高純鋁靶材的
發布時間：2016-03-29 點擊次數：535
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濺射靶材磁控濺射原理： 在被濺射的靶極(陰極)與陽極之間加一個正交磁場和電場，在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣)，永久磁鐵在靶材料表面形成250～350高斯的磁場，同高壓電場組成正交電磁場。 在電場的作用下，Ar氣電離成正
發布時間：2016-03-29 點擊次數：149
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靶材的市場廣闊，應用范圍大，未來發展較大，為了幫助大家更多的了解靶材的性能，下面我們就為大家簡單的介紹一下靶材的主要性能要求，希望對大家有所幫助。 純度：純度是靶材的主要性能指標之一，因為靶材的純度對薄膜的性能影
發布時間：2016-03-29 點擊次數：837
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磁控濺射原理：電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞，電離出大量的氬離子和電子，電子飛向基片。氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜。二次
發布時間：2016-03-29 點擊次數：764
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磁控濺射原理：在被濺射的靶極(陰極)與陽極之間加一個正交磁場和電場，濺射靶材在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣)，永久磁鐵在靶材料表面形成250～350高斯的磁場，同高壓電場組成正交電磁場。 在電場的
發布時間：2016-03-29 點擊次數：535
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ITO材料是一種n型半導體材料，該種材料包括ITO粉末、靶材、導電漿料及ITO透明導電薄膜。其主要應用分為：平板顯示器(FPD)產業，如液晶顯示器(LCD)、薄膜晶體管顯示器(TFT-LCD)、電激發光顯示器(EL
發布時間：2016-03-29 點擊次數：349
