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合金靶材
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真空濺射靶材的信息介紹

2016-03-29 00:00:00

真空濺射的信息介紹,幫助大家更好的了解行業的知識。

  技術指標:純 度:3-4 N 主要成分:ZnO:Al2O3= 97:3 [可根據用戶要求調整Al2O3摻雜比 (0-4) wt%] 相對密度:d≥ 98% 理論密度:ρ= 5.6 g?cm-3 實際密度:ρ≥ 5.5 g?cm-3 致密性均一:從橫斷面看無白點或大顆粒 2.鍍膜性能:方塊電阻:膜厚900 nm左右時,方阻≤ 10Ω/□ 電 阻 率:ρ≤ 9×10-4 Ω?cm 可見光透過率:T≥ 80% 3.濺射功率密度:目前國內鍍膜設備適用功率3-4 w?cm -2,在設備冷卻系統好的情況下,最高功率可達10 w?cm -2 4.可生產最大尺寸(mm):最大模具規格:L×W=334 ×272,現有L×W×H=330×135×12,160×135×12,160×135×9三種規格,厚度可根據客戶要求生產。


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